EVG®7200 自动智能NIL®紫外纳米印刻系统
EVG®7200自动智能NIL®紫外纳米印刻系统全场紫外纳米印影系统,最大200毫米,采用柔性冲印,采用EVG专有的SmartNIL®技术该EVG7200系统利用EVG创新的SmartNIL技术,实现
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EVG®720自动智能NIL®紫外纳米印刻系统全场UV纳米印刻系统,最大150毫米,采用柔性冲印,采用EVG专有的SmartNIL®技术EVG720系统利用EVG创新的SmartNIL技术,实现高图案
EVG®6200 NTSmartNIL 紫外纳米印刻光刻系统具备UV纳米印记能力的口罩校准系统,采用EVG专有的SmartNIL®技术,最大可达150毫米该系统以其自动化灵活性和可靠性著称,提供
EVG®620 NT智能NIL®紫外纳米印刻系统具备UV纳米印刻光刻能力的掩膜校准系统,采用EVG专有的SmartNIL®技术,最大可达100毫米EVG620 NT以其灵活性和可靠性著称,采用最
EVG®610紫外纳米印记光刻系统具备紫外纳米印刻光刻能力的掩膜校准系统,尺寸可从小件到150毫米该工具支持多种标准光刻工艺,如真空、软曝光、硬曝光和近距曝光模式,并可选择
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EVG®150自动光刻胶加工系统EVG®150是一款全自动光刻蚀刻处理系统,提供高通量性能,支持直径达200毫米的晶圆。EVG150 设计为全模块化平台,提供自动化的离心/喷涂/显影工
EVG®120自动光刻胶加工系统EVG®120是一款全自动光刻蚀刻处理系统,适用于低量和大批量制造,支持最大200毫米的晶圆下一代成熟的EVG 120配备了新型机器人系统、优化的并
EVG®105烘焙模块独立的EVG®105烘焙模块,用于软或曝光后烘焙工艺软烘焙、曝光后烘焙和硬烘焙步骤可以在 EVG105 烘焙模块上执行。受控烘烤环境确保蒸发均匀,可编程近接
EVG®101先进光刻处理系统是研发和小规模生产中单片光刻蚀剂加工的完美解决方案EVG101光刻蚀刻处理系统与EVG自动化系统完全兼容,在单腔室设计上执行R&D型工艺。紧凑且占