EVG®120 自动光刻胶加工系统
EVG®120
自动光刻胶加工系统
EVG®120是一款全自动光刻蚀刻处理系统，适用于低量和大批量制造，支持最大200毫米的晶圆
下一代成熟的EVG 120配备了新型机器人系统、优化的并行处理、模块化刀具设计、优化的分配系统以及包含晶圆边缘曝光的后处理单元。此外，该系统还带来了显著的经济效益，如通过原位检测光阻厚度提升良率、因紧凑占地和优化化学品使用降低拥有成本，以及通过待机模式降低能耗。新型EVG 120能够加工多种材料，如薄型和厚型光刻胶、介质、彩色光刻胶和粘合剂，应用于光刻、晶圆键合和纳米印刻光刻。涂层厚度范围从100纳米到数百微米不等。
特色：
晶圆尺寸可达200毫米
超紧凑设计，体积缩小<1.9米2
最多可安装2个涂层或显影模块和14个热/冷板
灵活模块化配置，包括离心涂覆/喷涂/显影
底架集成最多6台泵和抗阻瓶;泵和电阻在使用点的最短距离内使用
CoverSpin™碗设计提供了卓越的均匀性和减少的材料消耗
专有的OmniSpray®超声雾化技术，用于地形晶圆和脆弱基底的共形涂层
用户友好的图形界面，具备多用户概念
新款CIMFramework软件具备智能过程控制和数据分析功能：
1. 设备与工艺性能跟踪及数据分析功能
2. 并行/队列任务处理功能
3. 智能操控功能
4. 智能维护与跟踪功能