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紧凑型蚀刻机 RIE-1C紧凑型台式设备概要RIE-1C是用于半导体芯片故障分析的小型台式干式蚀刻系统。可以高效、低损伤地去除钝化膜。它操作简单，样品放置后只需按一下按钮就可

ø300 毫米反应离子刻蚀设备 RIE300NR最大可达 300 毫米（12 英寸）概要RIE300NR 型反应离子刻蚀机十分适合加工直径 300 毫米晶圆以及多片规格晶圆（3 英寸 ×12 片、

盒式装载反应离子刻蚀等离子体刻蚀设备 RIE200C高吞吐量系统概要RIE200C 为量产用卡匣式设备系统，该设备依托出货履历丰厚的 CCP 反应离子刻蚀设备 RIE10NR 的研发经验打造。

RIE 等离子刻蚀系统 RIE200NL优异的重复性与稳定性概要RIE200NL 为带加载锁结构的反应离子刻蚀设备，该设备能够提升工艺可重复性，可适配腐蚀性气体工艺。经过全面优化的工艺腔

RIE 等离子刻蚀系统 RIE10NR新型低成本且高性能的概要RIE10NR 是一款全新的低成本、高性能全自动反应离子刻蚀设备，能够满足无腐蚀性气体化学工艺下严苛的工艺需求。搭载触控

盒式装载紫外线臭氧清洗设备 UV-300HC双盒式生产系统概要UV-300HC是一款高性能的盒式装载UV臭氧清洗机，用于生产。这个行业领先的系统有2个装载盒，可以达到200-300nm/min的高

紫外线臭氧清洗机 UV-300H200 - 300 nm/min的高灰化率。概要UV-300H是一款高性能的紧凑型紫外线臭氧清洗机。通过滑动抽屉将基材装入系统中。紫外线照射、高浓度臭氧和阶段

紫外线臭氧清洗机 UV-1紧凑型台式设备概要UV-1是一款紧凑型台式紫外线臭氧清洗机。该系统将紫外线照射、臭氧和平台加热独特地结合在一起，温和而有效地去除硅、玻璃、化合物

等离子清洗设备 PC-300紧凑耐用的设备概要PC-300是一种平行板式等离子清洗机，用于清洗样品表面的有机和无机污染。
该工艺室允许用户安装多个电极架，架式电极配置的灵活性支持

等离子清洗设备 PC-1100多功能和耐用的设备概要PC-1100是一种平行板式等离子清洗机，用于清洗样品表面的有机和无机污染。
该工艺室允许用户安装多个电极架，架式电极配置的灵活