EVG®610 紫外纳米印记光刻系统
EVG®610
紫外纳米印记光刻系统
具备紫外纳米印刻光刻能力的掩膜校准系统，尺寸可从小件到150毫米
该工具支持多种标准光刻工艺，如真空、软曝光、硬曝光和近距曝光模式，并可选择背面对准。此外，该系统还提供传统的紫外纳米印刻光刻（软紫外-NIL），能够快速处理和重新配置以满足用户需求变化，光刻与NIL之间的转换时间仅需几分钟。其先进的多用户概念可从初学者到专家层面进行调整，因此非常适合大学和研发应用。
特色
上下方向对齐能力
高精度对准阶段
自动楔形误差补偿机制
电动和配方控制的曝光间隙
支持最新的UV-LED技术
最小化系统占地和设施需求
逐步流程指导
远程技术支持
多用户概念（无限用户账户和配方，可分配访问权限，不同用户界面语言）
敏捷加工与光刻工艺间的转换
台面或独立版本，配备防震花岗岩桌子
附加功能：
1. 键合比齐
2. 红外线对齐
3. 纳米印刻光刻
4. μ接触印刷