大力士® 光刻轨道系统
大力士®
光刻轨道系统
HERCULES®是一款大批量平台，将整个光刻工艺流程集成于一个系统中，减少了工艺占用和操作员支持。
基于模块化平台，HERCULES结合了EVG已建立的光学掩膜对准技术与集成晶圆清洗、光阻涂层、烘焙和光阻开发模块。HERCULES 支持不同晶圆尺寸的盒式对盒式处理。HERCULES能够安全地处理厚重、高度弯曲、矩形、小直径晶圆甚至设备托盘。可用于夹层和钝化应用，进行精确的上下表面对齐，以及亚微米至超厚（最高可达300微米）的光阻涂层。先进的对准阶段设计在高通量下实现了高度准确的对准和曝光结果。
特色：
生产平台结合了EVG精密对准和光阻处理系统的所有优势，且体积最小化
多功能平台支持全自动处理各种基底形状、尺寸、高度变形的模具片甚至托盘
最高52,000 cP涂层使得制造高达300微米的超厚光刻蚀刻结构成为可能
CoverSpinTM 旋转保护罩，实现低光阻消耗和优化光刻涂层均匀性
Omni喷涂®涂层用于优化高地形表面的涂层
纳米喷雾®用于通孔结构的涂层和保护
自动化口罩处理与存储
光学边缘暴露和/或溶剂清洁以去除边缘珠
使用桥式工具系统处理多种尺寸的脆弱、薄或变形晶圆
重装分拣晶圆管理与灵活盒式系统
多用户概念（无限用户账户和配方，可分配访问权限，不同用户界面语言）