EVG

EVG®6200 NT

SmartNIL 紫外纳米印刻光刻系统

具备UV纳米印记能力的口罩校准系统，采用EVG专有的SmartNIL®技术，最大可达150毫米

该系统以其自动化灵活性和可靠性著称，提供最先进的遮罩对准技术，且体积最小化。操作友好的软件、最短的掩盖和模具更换时间，以及高效的全球服务和支持，使其成为任何研发环境直到半自动化批量生产的理想解决方案。该工具支持多种标准光刻工艺，如真空、软曝光、硬曝光和近炸曝光模式。此外，支持EVG专有的SmartNIL技术。

SmartNIL是业界领先的NIL技术，能够实现极小特征的图案化，精度小于40 nm*，以及多种结构尺寸和形状。SmartNIL结合多用途软印技术，实现了无与伦比的吞吐量，同时保持了可扩展性和易于维护的运营。EVG的SmartNIL兑现了纳米印记作为一种低成本、高产量的替代光刻技术，用于微纳尺度结构的大规模制造的长期承诺。
*分辨率取决于流程和模板

特色

上下方向对齐能力

高精度对准阶段

自动楔形补偿序列

电动和配方控制曝光间隙

支持最新的UV-LED技术

最小化系统占地和设施需求

逐步流程指导

远程技术支持

多用户概念（无限用户账户和配方，可分配访问权限，不同用户界面语言）

敏捷处理与转换再工具化

台面或独立版本，配备防震花岗岩桌子

附加功能：

1. 键合比齐

2. 红外线对齐

3. 聪明的NIL® 

4. μ接触印刷