EVG®101 先进光刻处理系统
EVG®101
先进光刻处理系统
是研发和小规模生产中单片光刻蚀剂加工的完美解决方案
EVG101光刻蚀刻处理系统与EVG自动化系统完全兼容，在单腔室设计上执行R&D型工艺。紧凑且占地小的布局使用户能够在工业层面半自动化处理晶圆，用于开发新器件或工艺。
特色
晶圆尺寸范围从小块、方形和圆形基底到300毫米不等
自动离水或喷涂，或手动晶圆装卸显影
利用经过验证的模块化设计和标准化软件，快速便捷地从研究到生产的流程转移
注射器分配系统，用于利用小体积的光刻胶，包括高粘度的光刻胶
小规模的空间，同时保持高度的个人和流程安全
多用户概念（无限用户账户和配方，可分配访问权限，不同用户界面语言）
NRTL名单
选项：
1. 采用OmniSpray®涂层技术对高地形晶圆表面进行均匀涂层
2. 后续粘结工艺的蜡和环氧涂层
3. 离心玻璃（SOG）涂层
4. CoverSpin™技术
5. 喷嘴清洗
6. 边缘处理
7. 边缘珠去除
8. 背面冲洗功能
9. 用于喷涂的加热夹头