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产品展示

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反应性离子刻蚀系统-PlasmaPro 100 RIE

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PlasmaPro 100 RIE模式可为多种材料提供各向异性干法刻蚀工艺。主要特点:1. 兼容200mm以下所有尺寸的晶圆2. 快速更换不同尺寸晶圆3. 购置成本低且易于维护4. 出色的均匀性,高

电感耦合等离子体刻蚀系统-PlasmaPro 80 ICP

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PlasmaPro 80 ICP是一种结构紧凑、小型且使用方便的直开式系统,可提供多种刻蚀解决方案。 它易于放置,便于使用,且能够确保工艺质量。直开式设计允许快速的进行晶圆装卸,是科学

Xplore 通用 EDS 检测器

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Xplore EDS 探测器专为扫描电镜中的常规分析而设计。它包含与Ultim Max高大面积探测器相同的成熟技术,因此用户可以期待相同的高质量结果,但封装要小得多。Xplore补充了我们全

alphaCART – 移动式共聚焦拉曼系统

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WITec 新品:alphaCART 是一款移动式共聚焦拉曼系统,该系统可实现将“实验室”搬到检测现场,为您拓展特殊样品环境下的更多科研应用。在科研工作中,往往存在一些大型的

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Asylum Research Cypher系列AFM

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我们生产的高性能AFM系列可提供出色的成像分辨率,使用简便,还具备环境控制功能和视频级的扫描速度。Cypher L——Cypher系列的性价比之选Cypher S——Cyp

形状测量激光显微系统 VK-X4000 系列

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形状测量激光显微系统 VK-X4000 系列采用了“三重扫描方式”,灵活运用激光共聚焦、白光干涉、聚焦变化等三种不同的扫描原理,对各种目标物进行高精度的测量和分析。

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