Oxford Instruments 牛津仪器_上海伽桀测控技术有限公司

PlasmaPro ASP基于经过生产验证的企业/专业研发平台，旨在形成可集成到器件中的优质薄膜。它足够灵活，可以进行多种化学反应，并可实现高速、高质量的薄膜沉积。其中，我们最先进的

FlexAL系统可提供远程等离子体原子层沉积（ALD），这为纳米结构和器件的工程设计提供了一系列新的灵活性和可行性。主要特点：1. 在同一设备中可灵活使用远程等离子体与热ALD2. 集群

大面积刻蚀与沉积的量产型解决方案主要特点：1. 更大的批量生产能力2. 高产量3. 更稳定的器件质量4. 低购置成本5. 提供单晶圆传送腔室或者多至三个腔室的集群式配置6. 标准的

PlasmaPro 80是一种结构紧凑且使用方便的小型直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。它易于放置，便于使用，且能确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸，是研究、

PlasmaPro 800 为大批量晶圆和 300mm 晶圆的等离子增强化学气相沉积（PECVD）工艺提供了灵活的解决方案，它采用了紧凑的开放式装载系统。可实现大型晶圆大规模的批量生产和 300

设计PECVD工艺模式的目的是要在控制薄膜性能，如折射率、应力、电学特性和湿法化学刻蚀速率的前提下，生产均匀性好且沉积速率高的薄膜。主要特点：1. 高质量的薄膜，高产量和出色的

PlasmaPro 800系列是结构紧凑、且使用方便的直开式系统，该系统为大批量晶圆和300mm晶圆上的反应离子蚀刻（RIE）工艺提供了灵活的解决方案。大尺寸的晶圆平台能够处理量产级别的

PlasmaPro 80是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。它易于放置，便于使用，且能确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸，是研

PlasmaPro 100 RIE模式可为多种材料提供各向异性干法刻蚀工艺。主要特点：1. 兼容200mm以下所有尺寸的晶圆2. 快速更换不同尺寸晶圆3. 购置成本低且易于维护4. 出色的均匀性，高

PlasmaPro 80 ICP是一种结构紧凑、小型且使用方便的直开式系统，可提供多种刻蚀解决方案。它易于放置，便于使用，且能够确保工艺质量。直开式设计允许快速的进行晶圆装卸，是科学