等离子体蚀刻与沉积的簇状配置
等离子体蚀刻与沉积的簇状配置SENTECH集群工具包括等离子体刻蚀和/或沉积模块、转移室和真空载荷锁或磁带站，以实现晶圆操作的灵活性。主要特点与优势：高产率和高通量灵活的工
SENTECH 森泰克
西拉约皮尔德系统
西拉约皮尔德系统SENTECH SILAYO 是一种用于光学涂层和大型基板的等离子体增强原子层沉积（PEALD）系统主要特点与优势：PEALD最佳薄膜均匀性<1%样品直径可达330毫米，高度可达100毫
SIPAR混合ICP系统
SIPAR混合ICP系统多工艺低损伤低温沉积与蚀刻系统主要特点与优势：多进程无缝低损伤等离子体处理紧凑且经济SENTECH SIPAR将ICPECVD、PEALD、ICP-RIE和原子层蚀刻（ALE）技术整合
AL实时监控器激光椭圆仪
AL实时监控器激光椭圆仪SENTECH AL 实时监测仪是一款经过验证的光学诊断工具，能够实现单次 ALD 和 ALE 循环的超高分辨率工艺开发。主要特点与优势快速工艺开发与优化保存前
西·皮尔德等离子体增强原子层沉积系统
西·皮尔德等离子体增强原子层沉积系统SENTECH SI PEALD 使敏感基底和层在低温下实现均匀且贴合的涂层。样品表面提供高通量的活性气体，无需紫外线或离子轰击。主要特
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Depolab 200 PECVD 开放盖系统
Depolab 200 PECVD 开放盖系统Depolab 200是基础的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）系统，适用于用于蚀刻掩膜、膜和电隔离薄膜等多种用途的介电薄膜沉积。主要特点与优势：成本效
SI 500 D ICPECVD系统
SI 500 D ICPECVD系统感应耦合（IC）PECVD系统，SENTECH SI 500 D用于高密度、低离子能和低压等离子体沉积，以及低损伤、低温沉积用于钝化层。主要特点与优势：卓越的高密度等离子体
SI 500ALE系统
SI 500ALE系统作为SI 500的延伸，SI 500 ALE在低工作压力和低ICP功率下提供稳定等离子体，实现低损伤蚀刻并实现精确射频控制。主要特点与优势：利用PTSA源实现精确的低离子能量/
国际单位制500 CCP带有HE后侧冷却的RIE系统
国际单位制500 CCP带有HE后侧冷却的RIE系统一种带氦反冷却的导电耦合等离子体蚀刻工具，用于RIE模式下基底加工。主要特点与优势：卓越的材料蚀刻灵活性工艺稳定性极佳极佳的均