RIE 等离子刻蚀系统 RIE 200NL
RIE 等离子刻蚀系统 RIE 200NL优异的重复性与稳定性概要RIE 200NL 为带加载锁结构的反应离子刻蚀设备，该设备能够提升工艺可重复性，可适配腐蚀性气体工艺。经过全面优化的工艺腔
产品展示
RIE 等离子刻蚀系统 RIE 10NR
RIE 等离子刻蚀系统 RIE 10NR新型低成本且高性能的概要RIE 10NR 是一款全新的低成本、高性能全自动反应离子刻蚀设备，能够满足无腐蚀性气体化学工艺下严苛的工艺需求。搭载触控
盒式装载紫外线臭氧清洗设备 UV-300HC
盒式装载紫外线臭氧清洗设备 UV-300HC双盒式生产系统概要UV-300HC是一款高性能的盒式装载UV臭氧清洗机，用于生产。这个行业领先的系统有2个装载盒，可以达到200-300nm/min的高
紫外线臭氧清洗机 UV-300H
紫外线臭氧清洗机 UV-300H200 - 300 nm/min的高灰化率。概要UV-300H是一款高性能的紧凑型紫外线臭氧清洗机。通过滑动抽屉将基材装入系统中。紫外线照射、高浓度臭氧和阶段
紫外线臭氧清洗机 UV-1
紫外线臭氧清洗机 UV-1紧凑型台式设备概要UV-1是一款紧凑型台式紫外线臭氧清洗机。该系统将紫外线照射、臭氧和平台加热独特地结合在一起，温和而有效地去除硅、玻璃、化合物
等离子清洗设备 PC-300
等离子清洗设备 PC-300紧凑耐用的设备概要PC-300是一种平行板式等离子清洗机，用于清洗样品表面的有机和无机污染。
该工艺室允许用户安装多个电极架，架式电极配置的灵活性支持
等离子清洗设备 PC-1100
等离子清洗设备 PC-1100多功能和耐用的设备概要PC-1100是一种平行板式等离子清洗机，用于清洗样品表面的有机和无机污染。
该工艺室允许用户安装多个电极架，架式电极配置的灵活
深硅蚀刻设备 RIE-400iPB
深硅蚀刻设备 RIE-400iPB研发设备，最大可达4"概要RIE-400iPB是一款电感耦合等离子体放电设备，用于博世MEMS和电子元件工艺中的高速硅深孔加工。RIE-800iPB是为研究和开发目的
深硅蚀刻设备 RIE-800iPB
深硅蚀刻设备 RIE-800iPB 行业领先性能概述Samco的RIE-800iPB是一种高性能感应耦合等离子体（ICP）蚀刻系统，利用高密度等离子体进行MEMS和TSV应用所需的深硅蚀刻。
RIE-800iPB
深硅蚀刻设备 RIE-800BCT
深硅蚀刻设备 RIE-800BCT行业领先的性能概要RIE-800BCT是使用电感耦合等离子体作为放电形式的生产型硅DRIE系统。这种高性能系统能够进行高纵横比处理（超过100）和低扇形处理，同
深硅蚀刻设备 RIE-802BCT
深硅蚀刻设备 RIE-802BCT双室生产系统概要RIE-802BCT是采用电感耦合等离子体作为放电形式的两个反应室的量产用硅深孔系统。标准配置有空气盒和晶圆边缘保护环，以及高精度的
ICP刻蚀 ICP-RIE等离子体蚀刻设备 RIE-230iP
ICP-RIE等离子体蚀刻设备 RIE-230iP多功能负载锁设备概要RIE-230iP是以电感耦合等离子体为放电方式，高速进行各种材料的超精细加工的负载锁定型ICP蚀刻系统。该系统通过采用