EVG®150 自动光刻胶加工系统
EVG®150自动光刻胶加工系统EVG®150是一款全自动光刻蚀刻处理系统，提供高通量性能，支持直径达200毫米的晶圆。EVG150 设计为全模块化平台，提供自动化的离心/喷涂/显影工
产品展示
EVG®120 自动光刻胶加工系统
EVG®120自动光刻胶加工系统EVG®120是一款全自动光刻蚀刻处理系统，适用于低量和大批量制造，支持最大200毫米的晶圆下一代成熟的EVG 120配备了新型机器人系统、优化的并
EVG®105 烘焙模块
EVG®105烘焙模块独立的EVG®105烘焙模块，用于软或曝光后烘焙工艺软烘焙、曝光后烘焙和硬烘焙步骤可以在 EVG105 烘焙模块上执行。受控烘烤环境确保蒸发均匀，可编程近接
EVG®101 先进光刻处理系统
EVG®101先进光刻处理系统是研发和小规模生产中单片光刻蚀剂加工的完美解决方案EVG101光刻蚀刻处理系统与EVG自动化系统完全兼容，在单腔室设计上执行R&D型工艺。紧凑且占
LITHOSCALE® XT 高通量无掩膜曝光光刻系统
LITHOSCALE® XT高通量无掩膜曝光光刻系统LITHOSCALE® XT是一款革命性且高度多功能的无掩膜曝光光刻平台，适用于多种微制造应用，尺寸可达300毫米。EVG的LITHOSCALE®
石尺® 无掩膜曝光光刻系统
石尺®无掩膜曝光光刻系统LITHOSCALE®是一种革命性且高度多功能的无掩膜曝光光刻平台，适用于多种微加工应用，尺寸可达300毫米。该LITHOSCALE系统采用EV集团的MLE&trade
EVG®6200 NT 掩膜对准系统 （半自动/自动化）
EVG®6200 NT掩膜对准系统
（半自动/自动化）EVG®6200 NT掩膜对准器是一款多功能工具，可用于光学双面光刻和最大200毫米晶圆尺寸。EVG6200 NT以其自动化灵活性和可靠性著
EVG®620 NT 掩膜对准系统 （半自动/自动化）
EVG®620 NT掩膜对准系统
（半自动/自动化）EVG®620 NT采用最先进的掩膜对准技术，覆盖面积最小，最大可达150毫米晶圆尺寸。EVG620 NT以其多功能性和可靠性著称，采用最先进的
EVG®610 掩膜对准系统
EVG®610掩膜对准系统EVG®610是一款紧凑且多用途的研发系统，能够处理最大200毫米的小型基板块和晶圆。EVG610支持多种标准光刻工艺，如真空、硬曝光、软曝光和近距曝光
系列 9 - 颜色和水分测量仪
系列 9 - 颜色和水分测量仪诺信 9 系列在线测量仪可为您的食品和工业批量生产带来直接价值。 它是市场上唯一一款可以同时测量颜色、水分、脂肪/油和蛋白质的在线测量仪。概
CW 9000 - 紧凑型涂层重量测量仪
CW 9000 - 紧凑型涂层重量测量仪CW 9000 紧凑型测量仪为胶黏剂包装制造提供了 无与伦比的胶黏剂涂层重量和混合比测量。概述 CW 9000 测量仪 可对 多种转换应用（无溶剂、溶
Beta 300 β 射线测厚仪
Beta 300 β 射线测厚仪诺信的贝塔射线透射式测厚仪可对卷材制品实现高速、高精度的非接触式厚度与克重检测。概述：贝塔射线透射检测仪适用于卷材类连续生产制品的在线厚