西·皮尔德等离子体增强原子层沉积系统
西·皮尔德等离子体增强原子层沉积系统
SENTECH SI PEALD 使敏感基底和层在低温下实现均匀且贴合的涂层。样品表面提供高通量的活性气体，无需紫外线或离子轰击。
主要特点与优势：
PEALD用于敏感基底
原子层沉积（ALD）用于精确、共形和均匀沉积
工艺开发与优化的原位诊断
轻松清理反应堆
集群积分
手套箱系统集成
SENTECH ALD系统支持热和等离子增强运行。我们的ALD系统可配置氧化物、氮化物、二维材料沉积。三维结构可以均匀且共形地被覆盖。SENTECH结合ALD、PECVD和ICPECVD，提供等离子体沉积技术，可沉积纳米尺度至数微米尺度的薄膜。