Depolab 200 PECVD 开放盖系统
Depolab 200 PECVD 开放盖系统
Depolab 200是基础的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）系统，适用于用于蚀刻掩膜、膜和电隔离薄膜等多种用途的介电薄膜沉积。
主要特点与优势：
成本效益
可升级性
操作系统
SENTECH Depolab 200 PECVD系统具有坚固的设计、可靠性以及灵活的软硬件。该系统开发了多种工艺，例如用于高质量氮化硅和氧化硅层沉积。该系统包括带燃气箱的反应堆单元、控制电子设备、计算机、倒车泵和主连接箱。