SENTECH 森泰克

SI 500 D ICPECVD系统

感应耦合（IC）PECVD系统，SENTECH SI 500 D用于高密度、低离子能和低压等离子体沉积，以及低损伤、低温沉积用于钝化层。

主要特点与优势：

卓越的高密度等离子体

低应力感应耦合PECVD

SENTECH专有等离子体源技术

沉积层的卓越性能

动态温度控制

SENTECH SI 500 D ICPECVD系统代表了感应耦合等离子体（ICP）处理在研究和工业领域的前沿，用于等离子体增强化学气相沉积的介电薄膜、a-Si、SiC及其他材料。该系统包括ICP等离子体源PTSA、动态温控基板电极和全控制真空系统。SENTECH SI 500 D内置的柔性负载锁可处理从100毫米到直径200毫米的多种基底，以及载体上的基底。单片真空负载锁和机械夹紧保证了稳定条件，并允许工艺的直接切换。