原子层沉积（ALD）系统-FlexAL
FlexAL系统可提供远程等离子体原子层沉积（ALD），这为纳米结构和器件的工程设计提供了一系列新的灵活性和可行性。
主要特点：
1. 在同一设备中可灵活使用远程等离子体与热ALD
2. 集群式配置保证始终于真空下传送衬底
3. 盒式对盒式操作可提高产能以适于量产
4. 对材料和气体/液体源的选择具有更大的灵活性
5. 等离子体ALD可进行低温工艺
6. 使用远程等离子体以确保低损伤
7. 通过配方驱动的软件界面实现可控的和可重复的工艺
8. 可处理高达200mm的晶圆