原子层沉积（ALD）系统-PlasmaPro ASP
PlasmaPro ASP基于经过生产验证的企业/专业研发平台，旨在形成可集成到器件中的优质薄膜。它足够灵活，可以进行多种化学反应，并可实现高速、高质量的薄膜沉积。其中，我们最先进的等离子体增强型原子层沉积（ALD）系统提供了原子层沉积的灵活性、一致性和可调性，以快速实现更高产量和更厚的薄膜
主要特点：
1. 比传统远程等离子体快3倍
2. 减少前驱体消耗，环保且运行成本低
3. 高质量的材料
4. 使用成本低
5. 提高适用性和可维护性
6. 低容积腔室，速度更快
7. 对基底的破坏小
8. 工艺稳定性高