等离子体增强化学气相沉积系统-PlasmaPro 800 PECVD
PlasmaPro 800 为大批量晶圆和 300mm 晶圆的等离子增强化学气相沉积 （PECVD） 工艺提供了灵活的解决方案，它采用了紧凑的开放式装载系统。可实现大型晶圆大规模的批量生产和 300mm 晶圆处理。
主要特点：
1. 高性能工艺
2. 准确的衬底温度控制
3. 准确的工艺控制
4. 成熟的300mm单晶圆失效分析工艺
PlasmaPro 800 为大批量晶圆和 300mm 晶圆的等离子增强化学气相沉积 （PECVD） 工艺提供了灵活的解决方案，它采用了紧凑的开放式装载系统。可实现大型晶圆大规模的批量生产和 300mm 晶圆处理。
主要特点：
1. 高性能工艺
2. 准确的衬底温度控制
3. 准确的工艺控制
4. 成熟的300mm单晶圆失效分析工艺