电感耦合等离子体刻蚀系统-PlasmaPro 100 Polaris
单晶圆刻蚀技术的进展
凭借在蚀刻GaN，SiC和蓝宝石等材料方面的丰富经验，我们的技术既能够满足性价比的要求、又能使器件的性能得到更优化。
PlasmaPro 100 Polaris单晶圆刻蚀系统为得到更为精湛的刻蚀效果提供了智能解决方案，使您在行业中能保持竞争优势。
主要特点：
1. 高效的刻蚀速率
2. 低购置成本
3. 专为腐蚀性的化学成分而设计
4. 出色的刻蚀均匀性
5. 适用于蓝宝石的静电压盘技术
6. 蓝宝石和硅上的GaN
7. 高导通抽气系统
8. 可与其它PlasmaPro系统集成