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SAWATEC

SMD-200 / SMD-200-E 显影机

SMD-200 / SMD-200-E 显影机

SMD-200 / SMD-200-E 显影机

高工艺性能的清洗、显影或刻蚀

SMD-200 处理清洗和显影;SMD-200-E 还额外处理刻蚀。两款仪器均设计用于处理最大 8″(200 mm)晶圆或最大 6 × 6″ 基板。工艺腔直径最大 Ø 212 mm。

提供移动柜体型和台式安装型。

基本配置特性

可编程 50 个程序,每个含 24 段

触摸屏工艺配置

电动喷臂,带动态和静态功能

含一条显影管路和 2 升介质罐

DI 水冲洗和 N₂ 干燥集成在喷臂上

工艺杯内喷嘴用于背面冲洗

可选旋转方向(CW/CCW)

机械基板固定

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