SMD-300 / SMD-300-E 显影机
SMD-300 / SMD-300-E 显影机
高工艺性能的清洗、显影或刻蚀
SMD-300/SMD-300-E 设计用于处理最大 12″(300 mm)晶圆或 8 × 8″ 基板。工艺腔直径最大 Ø 312 mm。
SMD-300 / SMD-300-E 显影机
高工艺性能的清洗、显影或刻蚀
SMD-300/SMD-300-E 设计用于处理最大 12″(300 mm)晶圆或 8 × 8″ 基板。工艺腔直径最大 Ø 312 mm。