EVG

石尺®

无掩膜曝光光刻系统

LITHOSCALE®是一种革命性且高度多功能的无掩膜曝光光刻平台，适用于多种微加工应用，尺寸可达300毫米。

该LITHOSCALE系统采用EV集团的MLE™无口罩曝光技术，通过结合强大的数字处理技术，实现实时数据传输和即时暴露、高结构分辨率和吞吐量可扩展性，解决了传统瓶颈。其无掩膜方法消除了与掩膜相关的耗材，而其可调固态激光源的曝光系统设计高冗余和长寿命稳定性，并具备独特的自动校准功能，最大限度地减少维护。强大的实时数字处理使设计文件能够立即曝光到基底——从而避免了每个数字掩膜布局的数小时转换时间。LITHOSCALE具备高分辨率（<2μm L/S）动态芯片级可寻址整个基底表面的暴露，实现了敏捷的无耗材处理和低拥有成本（CoO）。LITHOSCALE系统集成了全晶圆顶背面对齐，采用具备可见性和红外功能的专用物镜，以及可容纳最高300毫米晶圆尺寸的专有夹头设计。该系统具备动态对准模式和自动对焦功能，以适应基材材料和表面的变化。精细控制焦点水平位置的能力不仅保持侧壁陡峭，还能保持光阻理想的三维轮廓，同时防止边缘顶部和基座。较远的工作距离和自动自适应对焦确保了曝光表面的图案均匀性。它还具备个性化的芯片处理能力，同时具备快速全场定位和动态对准，使得对多种基底尺寸和形状具有高度可扩展性。

特色:

晶圆/基板尺寸可达300毫米/12英寸

分辨率<2微米L/S

配备MLE技术，具备高端衍射极限光学技术

375纳米和/或405纳米波长的曝光光谱;用户可定义为单频、宽带或任意波长混合

定期监测和自动校准的固态光源，确保其长寿命稳定性和高冗余性

支持多点对准、顶侧和底侧可视和红外对准能力的高级对准模式

焦深控制（DoF）<24微米

自适应自动对焦控制（AF）<100微米

高精度、快速的全场定位和现场验证对准阶段，嵌入高科技机电一体化和校准传感器，实现全系统稳定性

高级软件功能包括：

1. 动态模具级注释

2. 高级失真补偿

3. 掩膜文件传输及配方执行，通过主机/弹性晶圆按每个晶圆执行

4. 布局变换函数

5. 支持的替代格式文件：Gerber、ODB++、OASIS

自动非接触楔形补偿序列

可扩展解决方案，兼容研发和大规模制造（HVM）需求，集成于一体，同时不增加占地面积

无消耗品技术