反应性离子刻蚀系统-PlasmaPro 800 RIE
PlasmaPro 800系列是结构紧凑、且使用方便的直开式系统，该系统为大批量晶圆和300mm晶圆上的反应离子蚀刻（RIE）工艺提供了灵活的解决方案。大尺寸的晶圆平台能够处理量产级别的批量以及300mm晶圆的工艺。
主要特点：
1. 高性能工艺
2. 准确的衬底温度控制
3. 准确的工艺控制
4. 成熟的300mm单晶圆失效分析工艺
PlasmaPro 800系列是结构紧凑、且使用方便的直开式系统，该系统为大批量晶圆和300mm晶圆上的反应离子蚀刻（RIE）工艺提供了灵活的解决方案。大尺寸的晶圆平台能够处理量产级别的批量以及300mm晶圆的工艺。
主要特点：
1. 高性能工艺
2. 准确的衬底温度控制
3. 准确的工艺控制
4. 成熟的300mm单晶圆失效分析工艺