光罩计量解决方案
蔡司证明你可以纠正你能测量到的。
图像位置仍然是光罩计量学的重要方面。不仅单个掩膜的特征位置精度——代表完整芯片设计中的一层——必须满足严格的要求。所有层的完整掩模组必须匹配，才能获得一个功能正常的器件。ZEISS PROVE光罩配准与叠加计量系统以亚纳米级的重复性和精度测量图像位置，确保图像的完美定位。
1.支持高精度的图案布置计量
2.掩膜与晶圆的高度相关性
3.支持极紫外光刻
4.支持EUV缺陷缓解策略
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3.支持极紫外光刻
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