光罩的判定与验证
确保光掩膜无缺陷
戴口罩资格赛
在使用光罩进入步进机或扫描仪之前，必须对所有光罩的缺陷进行鉴定，了解其对印刷性能的影响，并加以消除。AIMS是唯一能够在扫描仪等效条件下对光罩进行资格认证的系统，涵盖包括双图案化、源掩膜优化（SMO）和逆光刻技术在内的所有光刻技术。®
1.扫描仪类成像条件
2.全面的性能升级
3.根据您的需求量身定制
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