ZEISS 蔡司

口罩修复解决方案通过电子束光罩修复实现零可打印缺陷的光罩

向更小技术节点和特征尺寸的扩展趋势持续，极紫外技术在半导体行业中变得越来越重要。口罩制造的复杂性显著增加，也带来了修复高端光罩缺陷的需求。通过MeRiT，蔡司为各种光罩的修复提供了优化解决方案，能够修复最细微的缺陷。粒子去除系统（PRT）使光罩上最小的颗粒能够被去除。®

实现无缺陷的口罩制造