EVG®770 NT 步进重复纳米印记光刻系统
EVG®770 NT
步进重复纳米印记光刻系统
步进重复纳米印刻光刻技术，实现高效母版制造
EVG770 NT是一款多功能平台，用于步进重复（S&R）纳米印刻，用于高效主制造或直接图案化复杂结构于基板上。这种方法允许从最大30平方厘米的小模具均匀复制模板。S&R工艺允许在大面积上多次复制这些芯片，最高可达Gen2面板尺寸的基底。结合金刚石车削或直接写入方法，S&R印刷常被用来高效制造晶圆级光学制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。因此，它通常是大规模制造增强现实波导、光学传感器、衍射光学、超曲面或生物医学器件的关键前提。
EVG770 NT的关键特点包括精确校准能力、全过程控制以及能够满足各种结构和材料工艺需求的灵活性。
特色：
为SmartNIL®提供晶圆级光学到纳米结构的高精度微透镜主制造
高效扩展至最大至面板尺寸的大型基底
不同类型主的简单实现
可变光阻分配模式
在分配、印刷和脱模过程中的实时图像
用于印刷和脱模的原位力控制
光学距离控制与活间隙测量
可选的在线计量
可选邮票缓冲和自动换票
可选自动磁带转磁带处理