EVG

单身单身情侣 7200 LA®

大面积智能NIL®紫外纳米印刻系统

用于大面积面板的紫外纳米印刻光刻系统

EVG7200大面积紫外纳米印记系统将纳米印记光刻（NIL）扩展到面板尺寸（Gen）基底，并配备了最新的SmartNIL技术演进。对于显示器、线栅偏振片、生物技术和光子元件等无法缩小尺寸的应用，通过增加图案面积来提高基底利用效率至关重要。NIL已被证明是实现大面积纳米图案制造最具成本效益的方法，因为它不受光学系统的限制，能够为最小结构提供最佳的图案真实度。

SmartNIL采用非常稳健且可控的模具工艺，提供40 nm*范围内卓越的贴合印记效果。凭借独特且经过验证的设备能力，包括无与伦比的易用性，结合高水平的工艺专业知识，EVG通过推动纳米印记迈向新高度，满足行业需求。

*分辨率取决于流程和模板

特色：

1. 专有的SmartNIL®技术在大面积上实现无与伦比的贴合印记

2. 优越的复制保真度和均匀性

3. 多用途聚合物工作印章技术，实现最长的主打印寿命和显著的成本节约

4. 稳健且可精确控制的处理

5. 兼容所有商业化的印记材料

6. 提供研发和大规模制造配置