EVG

EVG®7300

多功能紫外纳米印刻光刻系统

多功能紫外纳米印刻系统，尺寸可达300毫米，具备SmartNIL®技术、透镜成型和透镜叠加于一体工具

多功能的EVG®7300 UV纳米印刻光刻系统支持多种相关的紫外工艺：SmartNIL、晶圆级光学（WLO）和堆叠——这三项功能融合于一个灵活的工具中。

它是基于模块化且改进的SmartNIL模块的独立系统，可根据搬运和自动化水平进行配置。支持从150毫米到300毫米的晶圆尺寸，具备300纳米高精度校准、先进的工艺控制和高通量，EVG®7300能够满足多种自由形态及高精度纳米及微光学元件及器件的高量制造（HVM）高端研发需求。为了在高压机环境中实现集成的前后流程，该模块可以集成到HERCULES NIL系统中。

该多功能系统旨在服务于涉及微型和纳米印记以及功能层紫外叠加等多种新兴应用。因此，该设备能够提升晶圆级光学（WLO）、纳米光子学、超表面和生物医学芯片的工艺性能。这与行业对新型光学传感器和光电子技术的需求密切相关，例如自动驾驶、汽车和装饰照明中的微透镜阵列和投影仪、用于生物识别认证的衍射光学，以及新兴的先进超透镜趋势。目前，先进生物医学设备和增强现实波导领域已有首批应用，纳米印记技术实现了复杂设计的高质量制造。

特色：

灵活性：UV-NIL系统支持三种紫外处理：SmartNIL、WLO和堆叠

1.精准控制的多步骤过程，包括对准、接触和紫外固化

2.SmartNIL和WLO的低力自动印章分离

可扩展性：处理最大300毫米基底晶圆

模块化：独立模块，并集成到 HERCULES NIL

1.基材搬运：从手动装载到全自动操作

2.可选自动装印SmartNIL，支持连续模式操作

高级对齐能力：

1.300nm<±实时对准（取决于工艺）

紫外线LED灯泡高功率500mW/cm²：

1.> 90%的均匀性

2.可选：双波长操作：365nm和405nm

3.不同的曝光模式

可选功能：

1.光学楔形误差补偿（WEC）

2.温控夹头

行业领先的工艺性能：

1.分辨率可降至单纳米范围

2.非常精确的残留层控制