液体原料CVD设备 PD-270STLC
液体原料CVD设备 PD-270STLC
低应力薄膜的高速（>300nm/min）沉积
概要
PD-270STLC是一种低温(80 ~ 400°C)、高速(>300 nm/min)的等离子体增强CVD系统，可用于大规模生产。Samco独特的液态源CVD系统采用自偏置沉积技术和液态TEOS源，以低应力沉积SiO2薄膜，从薄膜到极厚的薄膜（高达100 µm）。该系统通过采用大气盒装载和ø236毫米的托架实现了高产量，可安装三个ø4英寸的晶圆。
主要特点和优点：
最大加工尺寸为ø236mm的托架（ø3" x 5, ø4" x 3, ø8" x 1）。
阴极耦合自偏析沉积技术可以实现低应力薄膜的高速（>300nm/min）沉积。
通过低温沉积，可以在塑料表面上沉积薄膜。
高纵横比结构的优秀阶梯覆盖率
使用锗、磷、硼液源控制折射率。
优异的工艺均匀性和可重复性。